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如何才能避免这种不均匀呢？

(1)、高硅含量一过共晶点就非常容易产生结晶偏差，所以可以做一个金属模具，浇铸出来的样品像一个图章的样子，底面直径大约35毫米，厚度6毫米左右，浇铸口径不大于8毫米，把样品的底面车平就可以了，应该问题不大。

(2)、si要求在6.5%-7.5%，生产控制样偏差0.15%应该算正常，标准样也有这么大的偏差，生产时结晶si要尽量要小，便于渗入合金中，精炼搅拌均匀，静置时间适当放长，手持光谱仪，取样制样很关键，模具壁要厚，便于冷却快，晶粒细化，手持光谱仪价格，样品均匀性就好。

直读光谱仪激发台孔已经不圆了，不知道这样会不会对分析有影响?

台孔不圆会使激发光束偏离正常位置，使之与入射狭缝有偏移，导致分析结果偏低。

激发时间间隔一长，就不能正常激发，手持光谱仪多少钱，提示气保护电路无响应，如果激发前先冲的话，有时又能正常激发。怎么回事？

这是一种气保护程序，主要是为了使仪器在长时间不用的状况下，节约气的一种手段。

在激发的时候，突然停电，电力恢复后，激发正常，就是不出数据。

试一试电脑与光谱仪的连接线是否---，还有曲线是否正常。